一款具有高分辨率的通用型接近/接触式手动掩模对准系统和紫外曝光系统的结合，非常适用于研发中心，试验性生产实验室以及具有广泛的可互换的生产应用领域，该系统提供可升级系统配置，其中包括可选择的紫外灯源系统，不同的紫外光谱，电源供应系统，掩膜固定支架，硅片/基片固定支架，光学可视对准系统。同时在长期的使用中发现该系统具有非常高的可靠性能，多功能的用途以及简易方便的操作方法，深受用户喜爱。ABM掩膜对准曝光系统是一款非常强大的光刻设备，它综合以上提到的各项实用可靠的功能以及较低的营运成本，因此在高性价比的设备选择中，ABM掩膜对准曝光系统是最好的选择。
掩模对准系统:
- 桌上型掩膜对准系统
- 精确的对准系统适用于单芯片，碎片以及6英寸的硅片或者同尺寸的基片。同时可以根据客户需求，提供8英寸尺寸规格的选项。
- 真空式载片系统（带有预对准的对位片）
- 曝光模式：软接触，硬接触，真空接触以及间隙式曝光
- X,Y轴千分尺的的精度为0.5微米，θ角千分尺的精度为0.0001度，同时提供微分千分尺的选项。
- 载片台的移动距离，X/Y方向可以达到±6 mm，θ角可以达到±5°
- 带有压力感应系统的Z轴千分尺，同时可以提供自动找水平功能，确保基片和掩模板之间的水平。
- 可更换的正面式或者背面式真空式掩模板支架，尺寸可以从2英寸至7英寸之间进行选择，同时提供9英寸尺寸规格的选项。
- 掩模板固定支架的可旋转角度为+/-45 degrees。
- 在掩模板和基片之间提供氮气净化功能。
- 提供6英寸或者8英寸（可选项）范围大小的整直紫外光束，提供波长范围为NUV（365-436nm）或者DUV(220-280nm)（可选项）或者MUV (280-310 nm)（可选项）。
- 提供高精度的散热绝缘石英反射镜组
- 提供标准排放量的散热风扇以及过热保护装置
- 提供防反射的鹰眼镜组，同时该镜组可以有效减低光衍射
- 全幅准直校正光束分光镜:半角<1.85 degrees
- 提供双波长光强感应器以及侦测反馈系统
- 汞灯以及防爆装置
- 温度及气流量感应安全保护(超限停止)装置
- 可更换滤波片之插槽装置
- 曝光时间调节范围:0.1 秒到999.9 秒
- 提供可调节双通道350瓦恒光强/恒功率电源供应器，可提供的选项为500瓦，1000瓦，2000瓦的DUV和NUV电源供应器
- 功率过载蜂鸣警告保护
- 单视场/分离视场的双CCD 照相对准系统，可连续调节放大倍率范围为90-600 倍，可以提供选项为180-1200倍的连续调节放大倍率
- 显微镜系统拥有记忆对准功能（能够重复到上次的对准位置）
- 带有气动锁定X，Y轴运动的显微系统
- 电子/气动操控面板，半自动设备提供PLC触控面板控制
- 提供全方位的安全互锁系统以及紧急制动系统
- 系统升级及相关选项:
- 高精度对准系统，可以提供升级至最大尺寸为8英寸的基片。
- 针对波长范围为DUV (220-280 nm)，MUV (280-310 nm)以及NUV (365-450 nm)的紫外光线，可提供8英寸圆形或者方形的紫外曝光系统
- 半自动系统设备可以提供PLC触摸面板操控系统。
- 可以提供微分千分尺，X/Y轴的精度为0.1微米，θ角的精度为0.00001度。
- 可以提供使用操纵杆方式进行对X/Y/θ的移动控制。
- 可以提供环形照明系统
- 可以提供棱镜系统，可以缩短分离视场系统的最小间距为10mm。
- 可以提供最高放大倍率为2000倍。
- 可以提供电动式缩放以及对准方式（针对于CCD照相对准系统装置）。
- 可以提供背面红外对准系统。
- 可以提供背面可视对准系统。
- 可以提供大间隙功能对准系统。
- 可以提供紫外纳米印刷光刻系统。
- 提供基片夹具，可以在对准系统上对准之后转移至键合设备上进行对准键合功能。
- G，H，I线波长滤光器
- 中性密度滤光器
- 光强测试仪，可以提供单波长或者双波长探头
- 标准型防震桌
- 无油真空泵和空压机
- 远程排风系统
- UV-400护目镜