截止到2012年1月，ABM公司在世界范围售出了500多台光刻机，50多台单独曝光系统。著名的客户包括美国航天局NASA和INTEL、哈佛大学、LG、美国海军实验室、菲利普、惠普、3M等，ABM在中国各地也拥有不同领域的客户，包括众多的工厂、知名大学和研究所等。
厚胶光刻工艺
应用实例1：ABM光刻机与CEE涂胶设备可满足客户对厚胶光刻的需要
Scanning Electron Micrographs 电子显微镜图像Feature Sizes图像尺寸: 25 x 25 微米方形
应用实例2：ABM光刻机与CEE涂胶设备可满足客户对厚胶光刻的需要
Scanning Electron Micrograph Feature Sizes: 10 microns square Photoresist采用AZ PLP 50XT 光刻胶使用Su-8胶曝光的，特征尺寸10x10微米，光刻胶高度为50um图形(深宽比5：1）
应用实例3：ABM光刻机与CEE涂胶设备可满足客户对厚胶光刻的需要
Scanning Electron Micrograph Feature Sizes: 30 microns square SU-8 Height: 300 microns使用Su-8胶曝光的，特征尺寸30x30微米，高度为300um图形(深宽比10：1）
ABM亚太总部拥有自己的光刻工艺实验室，可为我们的客户提供厚胶光刻及其他光刻工艺技术服务。以满足客户的工艺的要求。