全自动正/双面对准（TSV/BSV）光刻机
截止到2012年1月，ABM公司在世界范围售出了500多台光刻机，50多台单独曝光系统。著名的客户包括美国航天局NASA和INTEL、哈佛大学、LG、美国海军实验室、菲利普、惠普、3M等，ABM在中国各地也拥有不同领域的客户，包括众多的工厂、知名大学和研究所等。
ABM全自动光刻机主要规格：
全自动化量产衬底尺寸2英寸，4英寸，6英寸，8英寸原型或方形片。单面对准的全自动光刻工艺双面对准的全自动光刻工艺双工位片盒进出设计线性机械传送臂系统可同时承载3枚晶片的运作产能：120-150WPH高性能机械臂应对翘曲，形变晶片的吸附传送能力精确的图像识别系统，可自动识别多种对准标记ABM全自动光刻机：
产量可达120-150WPH稳定的性能,兼容2,4,6英寸(圆片/方片工艺)
设备型号：ABM/6/350/NUV/DCCD/FA
ABM全自动光刻机主要性能指标：
正面对准精度±1um对准光学系统：电控双目镜双视场CCD系统两组目镜有效视场分离可调节间距10mm-150mm紫外波长：UV400光强均匀性Beam Uniformity:：--<±1% over 2” 区域
--<±2% over 4” 区域
--<±2.5% over 6” 区域
真空接触、接近式曝光支持最大300um间距接近式曝光自动水平面校正系统控制系统PLC/PC支持恒定光强或恒定功率模式ABM全自动光刻机：
自动对准功能可适用各种对准标记。