- 桌上型掩膜對準系統
- 精確的對準系統適用于單晶片，碎片以及6英寸的矽片或者同尺寸的基片。 同時可以根據客戶需求，提供8英寸尺寸規格的選項。
- 真空式載片系統（帶有預對準的對位片）
- 曝光模式：軟接觸，硬接觸，真空接觸以及間隙式曝光
- X,Y軸千分尺的的精度為0.5微米，θ角千分尺的精度為0.0001度，同時提供微分千分尺的選項。
- 載片台的移動距離，X/Y方向可以達到±6 mm，θ角可以達到±5°
- 帶有壓力感應系統的Z軸千分尺，同時可以提供自動找水準功能，確保基片和掩範本之間的水準。
- 可更換的正面式或者背面式真空式掩範本支架，尺寸可以從2英寸至7英寸之間進行選擇，同時提供9英寸尺寸規格的選項。
- 掩範本固定支架的可旋轉角度為+/-45 degrees。
- 在掩範本和基片之間提供氮氣淨化功能。
- 提供6英寸或者8英寸（可選項）範圍大小的整直紫外光束，提供波長範圍為NUV（365-436nm）或者DUV(220-280nm)（可選項）或者MUV (280-310 nm) （可選項）。
- 提供高精度的散熱絕緣石英反射鏡組
- 提供標準排放量的散熱風扇以及過熱保護裝置
- 提供防反射的鷹眼鏡組，同時該鏡組可以有效減低光衍射
- 全幅准直校正光束分光鏡:半形<1.85 degrees
- 提供雙波長光強感應器以及偵測回饋系統
- 汞燈以及防爆裝置
- 溫度及氣流量感應安全保護(超限停止)裝置
- 可更換濾波片之插槽裝置
- 曝光時間調節範圍:0.1秒到999.9秒
- 提供可調節雙通道350瓦恒光強/恒功率電源供應器，可提供的選項為500瓦，1000瓦，2000瓦的DUV和NUV電源供應器
- 功率超載蜂鳴警告保護
- 單視場/分離視場的雙CCD照相對準系統，可連續調節放大倍率範圍為90-600倍，可以提供選項為180-1200倍的連續調節放大倍率
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- 顯微鏡系統擁有記憶對準功能（能夠重複到上次的對準位置）
- 帶有氣動鎖定X，Y軸運動的顯微系統
- 電子/氣動操控面板，半自動設備提供PLC觸控面板控制
- 提供全方位的安全互鎖系統以及緊急制動系統
- 系統升級及相關選項:
- 高精度對準系統，可以提供升級至最大尺寸為8英寸的基片。
- 針對波長範圍為DUV (220-280 nm)，MUV (280-310 nm)以及NUV (365-450 nm)的紫外光線，可提供8英寸圓形或者方形的紫外曝光系統
- 半自動系統裝置可以提供PLC觸摸面板操控系統。
- 可以提供微分千分尺，X/Y軸的精度為0.1微米，θ角的精度為0.00001度。
- 可以提供使用操縱杆方式進行對X/Y/θ的移動控制。
- 可以提供環形照明系統
- 可以提供棱鏡系統，可以縮短分離視場系統的最小間距為10mm。
- 可以提供最高放大倍率為2000倍。
- 可以提供電動式縮放以及對準方式（針對于CCD照相對準系統裝置）。
- 可以提供背面紅外對準系統。
- 可以提供背面可視對準系統。
- 可以提供大間隙功能對準系統。
- 可以提供紫外納米印刷光刻系統。
- 提供基片夾具，可以在對準系統上對準之後轉移至鍵合設備上進行對準鍵合功能。
- G，H，I線波長濾光器
- 中性密度濾光器
- 光強測試儀，可以提供單波長或者雙波長探頭
- 標準型防震桌
- 無油真空泵和空壓機
- 遠端排風系統
- UV-400護目鏡
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