截止到2012年1月，ABM公司在世界范围售出了500多台光刻机，50多台单独曝光系统。著名的客户包括美国航天局NASA和INTEL、哈佛大学、LG、美国海军实验室、菲利普、惠普、3M等，ABM在中国各地也拥有不同领域的客户，包括众多的工厂、知名大学和研究所等。
光刻线条特征尺寸：
应用实例1：深紫外光源下0.25um线条
Scanning Electron Micrographs 电子显微镜图像Feature Sizes图像尺寸0.25微米线条采用TOK DUV 光刻胶，200nm光学镜，光刻胶厚度0.45微米。曝光时间40秒。
应用实例2：近紫外光源下0.6um线条
Scanning Electron Micrograph Feature Sizes: 0.5 um采用AZ PLP 50XT 光刻胶近紫外光源，曝光时间3秒，显影时间35秒。
应用实例3：接近式样曝光0.8um线条
Scanning Electron Micrograph Feature Sizes: 0.8 um, 50um gap近紫外光源，接近式曝光50um, 特征尺寸0.8um。